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SK海力士无锡第二工场竣工 浙江科技新闻网

来源:本站添加时间:2019-09-13 点击:

  世界第三大DRAM(动态随机存储器)出产企业韩国SK海力士日前在江苏无锡进行了以“芯的奔腾、芯的将来”为主题的第二工场竣工典礼。

  SK海力士2004年与无锡市签署建厂协议,2006年投产。其时建成的C2流水线是SK海力士的第一个300毫米晶片工场。但跟着半导体工程的风雅化成长,工程措施日益巨大,设备也日益大型化,工场空间开始拥挤。SK海力士从2017年6月开始投资建树包罗无尘车间等设施的第二工场。停止本月,此次扩建共投入了9500亿韩元,修建面积到达5.8万平方米。

  SK海力士相关人士暗示,无锡第二工场的竣工,最大限度扩大了无锡工场的出产和运转效率,使SK海力士拥有了中恒久竞争力。据报道,这次扩建将无锡工场的DRAM产能从本来的12万张晶片提高到了18万张,中国工场产能占SK海力士DRAM总产能的比例也将提高到40%—50%。